光刻胶和光刻胶辅助市场研究报告:按类型(正性光刻胶、负性光刻胶、干膜光刻胶)、按最终用途行业(半导体、印刷电路板、显示器)、按应用(光刻、阻焊层、蚀刻)、按粘度(低、中、高)和按地区(北美、欧洲、南美、亚太地区、中东和非洲)-预测2034.
ID: MRFR/CnM/27291-HCR | 128 Pages | Author: Snehal Singh| June 2025
光刻胶和光刻胶辅助设备市场概述:
根据 MRFR 分析,2022 年光刻胶和光刻胶辅助设备市场规模预计为 2.76(十亿美元)。光刻胶和光刻胶辅助设备市场行业预计将从 2023 年的 2.88(十亿美元)增长到 4.23 (十亿美元)到 2032 年。光刻胶和光刻胶辅助设备市场复合年增长率在预测期内(2024年至2032年),(增长率)预计约为4.36%。
重点光刻胶和光刻胶辅助产品市场趋势
在电子行业越来越多地采用先进技术的推动下,全球光刻胶和光刻胶辅助品市场正在蓬勃发展。对高分辨率显示器不断增长的需求、电子设备的小型化以及半导体设备的激增是主要的市场驱动力。先进材料、环保和低成本光刻胶的开发以及光刻技术的创新充满了机遇。最近的趋势包括越来越多地使用正性光刻胶、极紫外 (EUV) 光刻技术的出现以及光刻胶在包装应用中的日益采用。由于技术进步、物联网 (IoT) 的兴起以及对先进电子产品不断增长的需求,市场有望持续扩张。
资料来源:一级研究、二级研究、MRFR 数据库和分析师评论
光刻胶和光刻胶辅助设备市场驱动因素
对先进电子产品的需求不断增长
蓬勃发展的电子行业是全球光刻胶和光刻胶辅助市场行业的重要增长动力。智能手机、平板电脑、笔记本电脑和其他电子设备的激增导致对印刷电路板 (PCB) 的需求不断增加,而印刷电路板是这些设备的重要组件。光刻胶是用于制造PCB的光敏材料,在确保电路板的精度和可靠性方面发挥着至关重要的作用。随着对先进电子产品的需求不断激增,对高质量光刻胶和光刻胶的需求也在不断增加。辅助材料。
半导体技术的进步
半导体技术的快速进步是全球光刻胶和光刻胶辅助市场行业增长的另一个关键驱动力。晶体管的小型化和集成电路 (IC) 的复杂性不断增加,需要先进的光刻胶来满足这些应用的严格要求。具有更高分辨率、更低缺陷率和更高覆盖精度的光刻胶对于尖端半导体的生产至关重要。半导体技术的持续研发将继续推动对创新光刻胶解决方案的需求。
越来越多地采用 3D 封装
电子行业越来越多地采用 3D 封装,为全球光刻胶和光刻胶辅助市场行业创造了新的机遇。 3D封装允许在单个封装中堆叠多个芯片,这可以提高性能并减小电子设备的尺寸。光刻胶在 3D 封装的制造中发挥着至关重要的作用,因为它们用于创建芯片之间的互连。随着 3D 封装的采用不断增加,对能够满足该技术独特要求的专用光刻胶的需求也随之增加。
光刻胶和光刻胶辅助产品细分市场洞察:
光刻胶和光刻胶辅助设备市场类型洞察
全球光刻胶和光刻胶辅助品市场按类型分为正性光刻胶、负性光刻胶和干膜光刻胶。 2023年,正性光刻胶占据最大的市场份额,占全球市场的55%以上。由于其在半导体行业的广泛应用,预计在预测期内将继续主导市场。由于负性光刻胶在高密度集成电路(IC)制造中的应用不断增加,预计在预测期内将出现稳定的增长。干膜光刻胶由于其优势,预计将在预测期内获得显着增长,例如高分辨率和图案保真度。由于对电子设备的需求不断增长以及先进封装技术的日益采用,预计全球光刻胶和光刻胶辅助市场将在预测期内出现显着增长。市场的增长归因于对智能手机、笔记本电脑和平板电脑等电子设备的需求不断增长。扇出晶圆级封装 (FOWLP) 和系统级封装 (SiP) 等先进封装技术的日益普及也推动了市场的增长。全球光刻胶和光刻胶辅助市场的主要参与者包括 JSR Corporation 、Merck KGaA、Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.、Fujifilm Corporation 和 TOK。这些公司致力于开发新产品和新技术,以满足市场不断变化的需求。市场也出现了整合趋势,主要参与者收购较小的公司以扩大其产品组合和地理覆盖范围。
资料来源:一级研究、二级研究、MRFR 数据库和分析师评论
光刻胶和光刻胶辅助品市场最终用途行业洞察
全球光刻胶和光刻胶辅助品市场按最终用途行业细分为半导体、印刷电路板和显示器。 2023年,半导体占据最大的市场份额,占全球收入的45%以上。该细分市场的增长归因于智能手机、笔记本电脑和数据中心等各种电子设备对半导体的需求不断增加。由于汽车、工业和消费电子应用对 PCB 的需求不断增长,预计印刷电路板领域在预测期内将出现显着增长。在平面显示器日益普及的推动下,显示器领域预计也将稳步增长。 -电视、显示器和其他电子设备中的面板显示。
光刻胶及光刻胶辅助设备市场应用洞察
光刻细分市场在 2023 年占据最大的市场份额,约占全球光刻胶和光刻胶辅助市场收入的 55%。该细分市场的增长可归因于半导体制造中对高分辨率图案的需求不断增加。由于各种电子设备对印刷电路板(PCB)的需求不断增长,预计阻焊层领域在预测期内将出现最高增长率。由于扇出晶圆级封装 (FOWLP) 和系统级封装 (SiP) 等先进封装技术的日益普及,预计蚀刻领域也将出现显着增长。
光刻胶和光刻胶辅助剂市场粘度洞察
光刻胶的粘度是影响其在光刻工艺中性能的关键因素。粘度影响薄膜厚度、涂层均匀性和光刻胶图案的分辨率。低粘度光刻胶通常用于薄膜应用,因为它们可以轻松涂覆并提供良好的均匀性。中等粘度光刻胶适用于更广泛的应用,因为它们在薄膜厚度和分辨率之间提供了平衡。高粘度光刻胶用于厚膜应用,因为它们可以提供高分辨率和良好的图案清晰度。低粘度光刻胶的全球光刻胶和光刻胶辅助市场预计将从 2023 年的 12 亿美元增长到 2028 年的 16 亿美元,复合年增长率为 4.5%。中等粘度光刻胶市场预计将从2023年的15亿美元增长到2028年的20亿美元,复合年增长率为4.8%。高粘度光刻胶市场预计将从2023年的9亿美元增长到2028年的12亿美元,复合年增长率为4.0%。光刻胶市场的增长是由智能手机、笔记本电脑和平板电脑等电子设备的需求不断增长推动的。对高分辨率光刻胶的需求也在增加,因为它们是生产先进半导体器件所必需的。
光刻胶和光刻胶辅助设备市场区域洞察
全球光刻胶和光刻胶辅助设备市场分为北美、欧洲、亚太地区、南美、中东和非洲。 2023年,北美市场份额最大,占全球市场的35%以上。该地区是英特尔、高通和美光科技等主要半导体制造商的所在地。欧洲是第二大市场,份额超过25%。该地区拥有大量汽车和电子制造商。亚太地区是增长最快的地区,复合年增长率超过5%。该地区拥有大量电子制造商,包括三星、LG、华为等。预计南美洲、中东和非洲在预测期内将出现温和增长。
资料来源:一级研究、二级研究、MRFR 数据库和分析师评论
光刻胶和光刻胶辅助设备市场主要参与者和竞争见解:
光刻胶和光刻胶辅助市场行业的主要参与者正在不断努力改进其产品供应并扩大其市场范围。领先的光刻胶和光刻胶辅助设备市场参与者正在大力投资研发,以开发满足客户不断变化的需求的创新产品。光刻胶和光刻胶辅助设备市场的发展是由各行业对先进材料的需求不断增长、微电子技术的不断采用以及对设备小型化的日益重视等因素推动的。光刻胶和光刻胶辅助设备市场竞争格局的特点是主要参与者之间的激烈竞争。为了获得竞争优势,公司正在专注于产品差异化、战略合作伙伴关系和地域扩张等战略。东京应化工业有限公司是光刻胶和光刻胶辅助设备市场的领先公司。该公司以其高品质的产品和强大的客户群而闻名。东京应化工业株式会社提供各种光刻胶和光刻胶辅助产品,用于半导体、电子和汽车等各个行业。该公司在亚太地区拥有强大的影响力,并正在扩大其在其他地区的影响力。JSR Corporation 是光刻胶和光刻胶辅助市场的主要竞争对手。该公司以其创新而闻名电子产品和全球影响力。 JSR Corporation 提供广泛的光刻胶和光刻胶辅助产品,用于半导体、电子和显示器等各个行业。该公司在亚太地区、欧洲和北美拥有强大的影响力。
光刻胶和光刻胶辅助设备市场的主要公司包括:
光刻胶及光刻胶辅助设备市场行业发展
预计到 2032 年,全球光刻胶和光刻胶辅助设备市场将达到 42.3 亿美元,预测期内(2024-2032 年)复合年增长率为 4.36%。市场增长归因于半导体行业对光刻胶的需求不断增长,特别是在先进封装和高密度互连领域。极紫外(EUV)光刻等先进光刻技术的采用进一步推动了对高性能光刻胶的需求。此外,柔性和可穿戴电子产品的日益普及预计将推动光刻胶辅助材料的市场,例如脱模剂和抗反射涂层。由于主要半导体制造中心的存在,亚太地区等区域市场正在显着增长。行业参与者之间的战略合作伙伴关系和收购正在塑造竞争格局,各公司专注于扩大其产品组合和地理覆盖范围。
光刻胶和光刻胶辅助设备市场细分见解
光刻胶及光刻胶辅助设备市场类型展望
光刻胶及光刻胶辅助品市场最终用途行业展望
光刻胶及光刻胶配套产品市场应用展望
光刻胶及光刻胶辅助剂市场粘度展望
光刻胶及光刻胶辅助设备市场区域展望
Report Attribute/Metric | Details |
Market Size 2024 | 3.14 (USD Billion) |
Market Size 2025 | 3.27 (USD Billion) |
Market Size 2034 | 4.81 (USD Billion) |
Compound Annual Growth Rate (CAGR) | 4.36% (2025 - 2034) |
Report Coverage | Revenue Forecast, Competitive Landscape, Growth Factors, and Trends |
Base Year | 2024 |
Market Forecast Period | 2025 - 2034 |
Historical Data | 2020 - 2024 |
Market Forecast Units | USD Billion |
Key Companies Profiled | Photronics, TOK, KLA Corporation, Dow, Dainippon Screen Manufacturing, ShinEtsu Chemical, Applied Materials, Sumitomo Chemical, JSR, ASML, Huntsman, Lam Research, Hitachi Chemical, Canon, Nikon |
Segments Covered | Type, End-Use Industry, Application, Viscosity, Regional |
Key Market Opportunities | 1. With advanced semiconductor manufacturing, 2. Growing demand for electronics, 3. Miniaturization of electronic devices and 4. Government initiatives Increased. |
Key Market Dynamics | Increased demand for advanced semiconductor chips Growing adoption of EUV lithography Technological advancements in photoresist formulations Rising demand from emerging economies Shift towards smaller and more efficient electronic devices |
Countries Covered | North America, Europe, APAC, South America, MEA |
Frequently Asked Questions (FAQ) :
The Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market is expected to register a CAGR of 4.36% from 2025 to 2034.
Asia-Pacific is expected to dominate the Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market in 2034.
Key applications of Photoresist And Photoresist Ancillaries include printed circuit board (PCB) fabrication, semiconductor manufacturing, and display manufacturing.
Key competitors in the Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market include Merck, Dow, Shin-Etsu Chemical, JSR, and Kanto Denka Kogyo
Key trends driving the growth of the Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market include the increasing demand for electronic devices, the miniaturization of electronic components, and the development of new materials.
Challenges facing the Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market include the high cost of raw materials, the environmental impact of production, and the competition from alternative technologies.
Key opportunities for growth in the Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market include the development of new applications, the expansion into new markets, and the development of new technologies.
The Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market is expected to reach USD 4.81 billion by 2034.
Key factors that will influence the growth of the Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market in the future include the growth of the electronics industry, the development of new technologies, and the increasing demand for miniaturization.
Leading companies partner with us for data-driven Insights.
Kindly complete the form below to receive a free sample of this Report
© 2025 Market Research Future ® (Part of WantStats Reasearch And Media Pvt. Ltd.)